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专利名称：一种三维曲面抛光装置专利类型：发明专利
发明人：李公法,廖尚春,蒋国璋,陶波,许爽,曾飞,孙瑛,江都,于
慧,琚兆杰
申请号：CN201910556029.0申请日：20190625公开号：CN112123163A公开日：20201225
摘要：本发明公开了一种三维曲面抛光装置，包括箱体、转轴和框架，所述箱体的下端固定装配有转轴，所述框架位于箱体的上方，所述卡接结构与齿条相啮合，所述转轴的下端固定装配有滑板，所述滑板的下端设有支台，所述滑板与支台相贴合，所述支台的左右两侧均贯穿固定有支脚，所述支台的左右两侧均转动装配有转轮，所述拉绳贯穿支脚，所述拉绳与滑板固定装配，所述支台的下端左右两侧均固定装配有支撑结构，所述支撑结构与拉绳紧密贴合，所述箱体的下端左右两侧均固定装配有限位结构，本发明提供一种三维曲面抛光装置，可以很好的保证抛光效果，同时避免原料的损坏以及变形，进行多方位多角度的抛光，保证抛光更全面。
申请人：武汉科技大学
地址：430081 湖北省武汉市青山区和平大道947号武汉科技大学
国籍：CN
代理机构：深圳市千纳专利代理有限公司
代理人：刘晓敏
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